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          中國國產光刻膠現狀

          2018-07-23 11:56:20 1033

          中國國產光刻膠現狀

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          光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一,按應用領域可分為PCB(線路板)用、平板顯示(LCD、LED)用和半導體用三類,目前國內市場上絕大多數廠商生產的產品為前兩者。

          在大規模集成電路的制造過程中,光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝,占芯片制造時間的40%~50%,光刻膠是光刻工藝得以實現選擇性刻蝕的關鍵材料。

          為適應集成電路線寬不斷縮小的要求,光刻膠的波長由紫外寬譜向g線(436nm)→i線(365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)→F2(157nm)的方向轉移,并通過分辨率增強技術不斷提升光刻膠的分辨率水平。

          目前半導體市場上主要使用的光刻膠包括g線、i線、KrF、ArF四類光刻膠,其g線和i線光刻膠是市場上使用量最大的光刻膠。

          半導體用光刻膠技術壁壘較高、市場高度集中,日美企業基本壟斷了g/i線光刻膠、KrF/ArF光刻膠市場,生產商主要有JSR、信越化學工業、TOK、陶氏化學等。

          國產光刻膠發展起步較晚,與國外先進光刻膠技術相比國內產品落后4代,目前主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD 光刻膠等中低端產品,雖然PCB領域已初步實現進口替代,但LCD 和半導體用光刻膠等高端產品仍需大量進口,正處于由中低端向中高端過渡階段。

          隨著國家層面對半導體在資金、政策上的大力支持,國內光刻膠企業正在努力追趕,企業數量從2012年的5家增長到2017年15家,少數企業在中高端技術領域已取得一定突破。

          其中半導體用光刻膠領域代表性企業有蘇州瑞紅和北京科華,兩者分別承擔了02專項i線(365nm)光刻膠和KrF線(248nm)光刻膠產業化課題。目前,蘇州瑞紅實現g/i線光刻膠量產,可以實現0.35μm的分辨率,248nm光刻膠中試示范線也已建成;北京科華KrF/ArF光刻膠已實現批量供貨。

          如今國際半導體產能正在逐漸向國內轉移,受益于產業大趨勢,國產光刻膠需求將日益提升,隨著蘇州瑞紅、北京科華等企業在技術上的不斷突破,國產化替代趨勢愈加明顯。


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